ALLUX DUAL
듀얼 파장 기반의 고효율 올인원 레이저 플랫폼
Product Overview
ALLUX DUAL
AMI의 long-pulsed 레이저 장비 ALLUX DUAL 1064nm와 755nm의 듀얼 파장을 하나의 플랫폼에서 제공하여 다양한 시술에 적합한 장비입니다.
ALLUX DUAL은 시술 목적에 따라 유연하게 대응할 수 있으며, 가스 쿨링 경우 장시간 안정적인 내구성으로 시스템을 통해 온도 조절 가능합니다.
Product Detail
Top-hat Beam
- 균일한 에너지 분포로 안정적인 결과
- 예측 가능한 시술 효과
- 국소 열손상 및 부작용 위험 감소
Two Handpieces
- 카트리지 핸드피스 선택 가능
- 목적에 맞춘 유연한 적용
Two Cooling Options
- 가스 / 공기 두 가지 쿨링 방식 지원
- 시술 환경에 맞춘 유연한 선택 가능
Dual Wave lengths
755nm 모드와 1064nm 모드 중 선택
Long-lasting Gas
가스 쿨링 시스템은 900g의 대용량 가스를 탑재해 우수한 냉각 효율과 안정적인 성능을 제공합니다.
이는 타사 제품 대비 현저히 큰 용량으로, 4ml 기준 1병당 최대 25,000샷까지 사용이 가능하며, 정해진 사용 조건 내에서 재충전도 가능합니다
- 900g 대용량 가스로 안정적 쿨링 제공
- 최대 25,000샷 사용 가능 (4ml 기준)
- 타 제품 대비 월등한 지속력 & 재충전 가능
- 효과적이고 안전한 치료
- 1064nm
- 755nm
- 카트리지 핸드피스
- 가스 냉각 방식
- 공기 냉각 방식
- 스마트 프로토콜
Clinical Indication
제모 솔루션
- 굵고 짙은 털은 물론, 연하고 가는 털까지 대응
- 모든 피부 타입과 전신 부위에 안전한 제모
색소성 병변
- 주근깨
- 지루각화증
- 색소 이상
피부 재생
- 주름
- 피부 처짐
혈관 병변
- 모세혈관 확장증
- 청색 혈관 병변
- 안면 홍조
- 염증성 여드름
- 주사
- 화염상 모반
- 혈관종
- 거미상 정맥류
